电子工业用气体 四氟化硅

本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。
本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管 P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。
分子式:SiF4。
相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。