对表面分析用的工作参考物质（WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50 mm的抛光（或类似磨面)基片（也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素（也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为1016 atoms/cm2至1013 atoms/cm2（即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM)硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。