本文件规定了利用透射电子显微镜(TEM)测量金属薄晶体中位错密度的设备、试样、测定方法、数据处理、测定结果的不确定度和试验报告。
本文件适用于测定晶粒内不高于1×10 15m-2的位错密度。也适用于测量几十纳米至几百纳米厚度金属薄晶体试样中单个晶粒内的位错密度。
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