本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。
1.2 本标准适用于对锑?砷?磷的掺杂浓度<0.2%(1×1020atoms/cm3)的硅材料中硼浓度的检测。
特别适用于硼为非故意掺杂的p 型杂质,且其浓度为痕量水平(<5×1014 atoms/cm3)的硅材料的测试。
本标准适用于检测硼沾污浓度大于SIMS 仪器检测限(根据仪器的型号不同,检测限大约在5×1012atoms/cm3~5×1013atoms/cm3)两倍的硅材料。