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低压化学气相淀积设备通用技术条件
标 准 号:
SJ/T 10311-1992
替代情况:
替代 SJ/T 10311-1992
发布单位:
中华人民共和国机械电子工业部
起草单位:
国营建中机器厂
发布日期:
1992-06-15
实施日期:
1992-12-01
点 击 数:
更新日期:
2024年09月01日
内容摘要
本标准规定了低压化学气相淀积(LPCVD)设备的技术术语及薄膜厚度(以下简称膜厚)均匀性的计算公式、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则及包装、运输、贮存等方面的要求。
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电子束曝光机通用技术条件
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