硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法

标准号： GB/T 24575-2009

替代情况：

发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会

起草单位：信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所

发布日期： 2009-10-30

实施日期： 2010-06-01

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更新日期： 2025年03月12日

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内容摘要

本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。
本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。
本标准特别适用于位于晶片表面约5nm 深度内的表面金属沾污的测试。
本标准适用于面密度范围在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的不同而不同。