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硅片局部平整度非接触式标准测试方法

标准号： GB/T 19922-2005

替代情况：

发布单位：中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国家标准化管理委员会

起草单位：洛阳单晶硅有限责任公司

发布日期： 2005-09-19

实施日期： 2006-04-01

点击数：

更新日期： 2025年10月09日

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内容摘要

本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。

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